| 美国《半导体芯片保护法》研究 |
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| 引用本文： | 李明德.美国《半导体芯片保护法》研究[J].科技与法律,2004,15(3):28-43. |
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| 作者姓名： | 李明德 |
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| 作者单位： | 中国社会科学院 |
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| 摘 要： | 一、引言1984年 11月 8日 ,由美国国会通过的《半导体芯片保护法》正式生效 ,开始对体现在半导体芯片产品中的“光罩作品”(maskwork)或集成电路布图提供保护。这是当时世界上唯一对光罩作品或集成电路布图提供保护的法律。自此以后 ,这部法律不仅影响了日本、韩国、加拿大、英国、澳大利亚等国和当时的欧盟成员国的立法 ,而且影响了世界知识产权组织的《集成电路知识产权条约》和世界贸易组织的《与贸易有关的知识产权协议》。时至今日 ,对集成电路布图提供特别权利的保护 ,已经成为世界贸易组织所有成员的义务。集成电路系由一系列半导体…
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| 关 键 词： | 美国 《半导体芯片保护法》 集成电路系 版权法 专利权 侵权行为 |
Research on US The Semiconductor Integrated Circuits Layout-Design Act |
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| Li Mingde.Research on US The Semiconductor Integrated Circuits Layout-Design Act[J].Science Technology and Law,2004,15(3):28-43. |
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| Authors: | Li Mingde |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | |
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