我国创新主体在日本、韩国的专利申请与保护——以日韩专利制度的特点为视角 |
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引用本文: | 张鹏,庞谦.我国创新主体在日本、韩国的专利申请与保护——以日韩专利制度的特点为视角[J].电子知识产权,2010(7):29-34,77. |
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作者姓名: | 张鹏 庞谦 |
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作者单位: | 国家知识产权局专利复审委员会 |
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摘 要: | 日本、韩国是我国创新主体海外市场拓展及对外专利申请的主要目的国.我国创新主体在海外市场拓展过程中需要解读日本、韩国的相关专利制度,以便于保护自身合法权益.日本、韩国的专利制度既与我国专利制度有相似之处,也存在一些特点.通过介绍日本发明专利申请的加快审查程序、实用新型与发明的相互转化制度、外观设计实质审查制度、无效审判中较为特殊的程序以及专利侵权判断中具有特点的等同侵权判断规则和抗辩等制度,并对比介绍韩国"三轨制"审查程序、实质审查与形式审查并行的外观设计审查制度以及权利范围审判制度,为我国创新主体在日本、韩国的专利申请、确权与保护提供意见.
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关 键 词: | 日本 韩国 专利申请 专利授权 专利保护 |
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