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| 浅析真空镀膜显现潜在手印技术 | |
| 作者姓名： | 李孝君 黄涪江 韩柯 吴浩 |
| 作者单位： | 1. 公安部物证鉴定中心 2. 四川省遂宁市公安局刑科所 |
| 摘 要： | 介绍了真空镀膜技术的基本概念、发展现状、真空条件下镀膜所需的真空条件、手印显现原理、适用范围以及与显现非渗透性客体适用性最广的“502”熏显法之间的比较和增强处理. |
| 关 键 词： | 真空镀膜 潜在手印 显现 增强处理 |
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