著作权侵权的判断规则及在后独立创作之不侵犯著作权抗辩的考量因素 |
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作者姓名: | 赵刚 |
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作者单位: | 北京市朝阳区人民法院 |
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摘 要: | 接触加实质性近似是著作权侵权判断的核心规则,接触只要求可能性,实质性近似则要求独创性部分的相同.而在后独立创作作为著作权不侵权抗辩的合理理由,是需要综合考量创作手稿、在先创作的作品的独创性高低以及独创部分的多少、非独创部分的相似程度、被告在案件中提交独立创作证据的时间长短、被控侵权作品是孤立作品还是已经公开发表的系列作品之一、被控侵权作品的创作理念与作品之间的吻合程度以及在先创作的作品的公开发表方式、使用范围以及知名度等因素进行个案判断的.
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关 键 词: | 接触 实质性近似 独立创作 独创性 |
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