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| 聚焦《集成电路布图设计保护条例》 | |
| 引用本文： | 周春慧. 聚焦《集成电路布图设计保护条例》[J]. 电子知识产权, 2001, 0(5): 4-5,26 |
| 作者姓名： | 周春慧 |
| 摘 要： | 背景资料: 1947年年底,贝尔实验室的美国物理学家肖克利、巴丁和布拉顿三人,合作发明了晶体管,实现了电路固体化.它的发明开创了一个崭新的时代--固体电子技术时代.50年代末,在已有晶体管技术的基础上,一种新兴技术--集成电路诞生了.本质上,当时的集成电路工艺是外延平面晶体管制造工艺的延续.此后,集成电路技术飞速发展,使其成为现代所有信息技术的核心.美国在这个技术上一直处于遥遥领先的地位,但是,70年代日本发明了独特的金属-氧化物-硅(MOS)集成电路,代替了原来的双极型集成电路.近30年来两国在这一领域展开了激烈的竞争.人们也开始寻求此项技术的法律保护. |
Focusing on "Regulations of protection for integrated circuits' layout-design" |
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