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中国知识产权保护的新视点--《集成电路布图设计保护条例》立法简介
引用本文:张耀明. 中国知识产权保护的新视点--《集成电路布图设计保护条例》立法简介[J]. 科技与法律, 2001, 0(2): 104-108
作者姓名:张耀明
作者单位:国务院法制办公室教科文卫法制司
摘    要:2001年4月2日,国务院总理朱钅容基签署第300号国务院令,公布了《集成电路布图设计保护条例》(以下简称条例),自2001年10月1日起施行。条例的颁布,标志着我国保护知识产权的法律制度更加完备,同时也表明了中国政府一如既往地重视和保护知识产权的态度。由于工作的关系,笔者参加了条例的起草、审查过程,现将条例制定过程中的一些情况及条例的主要内容作简要介绍,希望能对准确理解条例有所帮助。一、关于条例制定的基本情况(一)关于制定条例的必要性1.进行集成电路布图设计立法,是适应我国加入世界贸易组织进程的需要。集成电路…

关 键 词:中国  知识产权  法律保护  集成电路布图设计保护条例  集成电路布图设计  布图设计专有权  合理使用

New Focus on the Protection of Intellectual Property Rights in China--A Brief Introduction to the Rule on the Protection of the Giraphic Designs of Integrated Circuit Layout
Zhang Yaoming. New Focus on the Protection of Intellectual Property Rights in China--A Brief Introduction to the Rule on the Protection of the Giraphic Designs of Integrated Circuit Layout[J]. Science Technology and Law, 2001, 0(2): 104-108
Authors:Zhang Yaoming
Abstract:
Keywords:
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